一、紫外线uv光清洗的特点
1、可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。
2、可彻底清除物体表面的碳和有机污染物。
3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。
4、保证产品的高可靠性和高成品率。
5、产品表面清洗处理的均匀度一致。
氧化的表面不宜用光清洗方法，只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多，无机类污垢清洗。
6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和有机化合物，所以容易发生
二、紫外线uv光清洗的技术应用范围
主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法Zui为合适。
主要材料：ito玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和 带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。
可以去除污垢：有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。
此uv光源在lcd工艺中又具有uv改质（紫外光表面质变）的特点，目前在液晶显示器stn的生产过程中，主要是用在膜处理技术上，对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的，如ito膜与感光胶膜层，top涂层与pi涂层等等。另在研究部门又可用来uv改性塑料材料产品，用于纳米技术研究，产品经此uv光照射发生化学反应，使产品表面性质改变。stn-lcd、彩色滤光片及oled的制作过程中，有些制程设备相当雷同，差别在于制造工艺要求的不同。随着线路的精细化及产品的彩色比，lcd产业对制造工艺的要求也不断地提升，而有"工欲善其事，必先利其器"之需求，因此只有设备能力不断地精进，才能提高生产的质量与效率。